Urteil des BPatG vom 01.06.2010
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BPatG 154
08.05
BUNDESPATENTGERICHT
23 W (pat) 324/06
_______________
(Aktenzeichen)
Verkündet am
1. Juni 2010
…
B E S C H L U S S
In der Einspruchssache
…
- 2 -
betreffend das Patent 199 39 040
hat der 23. Senat (Technischer Beschwerdesenat) des Bundespatentgerichts auf
die mündliche Verhandlung vom 1. Juni 2010 unter Mitwirkung des Richters Lokys
als Vorsitzendem, der Richterin Martens sowie der Richter Maile und Dr. Friedrich
beschlossen:
Das Patent wird widerrufen.
G r ü n d e
I.
Das Patent 199 39 040 (Streitpatent) wurde am 18. August 1999 beim Deutschen
Patent- und Markenamt mit der Bezeichnung „Magnetronsputtergerät“ angemel-
det. Es nimmt die Priorität der japanischen Patentanmeldung 10-232 927 vom
19. August 1998 in Anspruch. Die Prüfungsstelle für Klasse H01J des Deutschen
Patent- und Markenamts hat das Streitpatent mit Beschluss vom 25. Juli 2005 mit
8 Patentansprüchen erteilt. Der Veröffentlichungstag der Patenterteilung ist der
29. Dezember 2005.
Die Einsprechende hat mit Schriftsatz vom 29. März 2006, eingegangen über Fax
am selben Tag, Einspruch eingelegt und beantragt,
das Patent in vollem Umfang zu widerrufen.
Der Einspruch wird sinngemäß auf den Widerrufsgrund des § 21, Abs. 1, Nr. 1 in
Verbindung mit § 3 PatG (fehlende Neuheit) und § 4 PatG (fehlende erfinderische
Tätigkeit) gestützt.
- 3 -
Zum Stand der Technik verweist die Einsprechende u. a. auf die bereits im Prü-
fungsverfahren berücksichtigte Druckschrift
E2
WO 98/31041 A1
und führt insbesondere aus, dass der Gegenstand des erteilten Patentanspruchs 1
gegenüber dieser Druckschrift nicht neu sei.
Mit ihrem Schriftsatz vom 8. Februar 2007, eingegangen über Fax am selben Tag,
verteidigt die Patentinhaberin ihr Schutzrecht in der erteilten Fassung (Hauptan-
trag). Hilfsweise legt sie neue Ansprüche 1 bis 7 (Hilfsantrag 1) vor.
In der mündlichen Verhandlung vom 1. Juni 2010 überreicht die Patentinhaberin
einen weiteren Satz Patentansprüche 1 bis 7 (Hilfsantrag 2) sowie die
Patentansprüche 1 bis 7 (Hilfsantrag 3).
Die Einsprechende stellt den Antrag,
das Patent zu widerrufen.
Die Patentinhaberin stellt den Antrag,
das Patent in der erteilten Fassung aufrechtzuerhalten (Hauptan-
trag),
hilfsweise das Patent in der Fassung des Hilfsantrags 1, einge-
gangen am 8. Februar 2007,
weiter hilfsweise in der jeweiligen Fassung der Hilfsanträge 2
und 3, jeweils überreicht in der mündlichen Verhandlung, be-
schränkt aufrechtzuerhalten.
- 4 -
Der geltende, erteilte Anspruch 1 gemäß Hauptantrag hat folgenden Wortlaut:
„Magnetronsputtergerät zur Ausbildung einer Dünnschicht auf ei-
nem Substrat (2) durch Anhaftung von abgestäubten Metallato-
men oder -ionen mit
zumindest einer Magnetronzerstäubungsquelle (3), die die Metall-
atome oder -ionen verstäubt; und
zumindest einem magnetischen Hilfspol (9; 9a, 9b),
wobei die zumindest eine Magnetronzerstäubungsquelle (3) und
der zumindest eine magnetische Hilfspol (9; 9a, 9b) sämtlich an
der Peripherie des Substrates (2) zur Erzeugung von das Sub-
strat (2) umgebenden magnetischen Feldlinien (11) bereitgestellt
sind,
dadurch gekennzeichnet, dass
der äußere magnetische Pol der zumindest einen Magnetron-
zerstäubungsquelle und der zumindest eine magnetische Hilfspol
die gleiche Polarität aufweisen.“
Der geltende Anspruch 1 gemäß Hilfsantrag 1 ersetzt bezüglich Patentanspruch 1
nach Hauptantrag die Formulierungen „der zumindest eine“ und „sämtlich“ durch
„alle vorhandenen“ und lautet:
„Magnetronsputtergerät zur Ausbildung einer Dünnschicht auf ei-
nem Substrat (2) durch Anhaftung von abgestäubten Metallato-
men oder -ionen mit
- 5 -
zumindest einer Magnetronzerstäubungsquelle (3), die die Metall-
atome oder -ionen zerstäubt; und
zumindest einem magnetischen Hilfspol (9; 9a, 9b),
wobei
alle vorhandenen Magnetronzerstäubungsquellen (3) und alle vor-
handenen magnetischen Hilfspole (9; 9a, 9b) an der Peripherie
des Substrates (2) zur Erzeugung von das Substrat (2) umgeben-
den magnetischen Feldlinien (11) bereitgestellt sind,
und der äußere magnetische Pol aller vorhandenen Magnetron-
zerstäubungsquellen und alle vorhandenen magnetischen Hilfs-
pole die gleiche Polarität aufweisen.“
Der geltende Anspruch 1 gemäß Hilfsantrag 2 ergibt sich aus dem geltenden Pa-
tentanspruch 1 nach Hilfsantrag 1, indem hinsichtlich Anspruch 1 nach Hilfsan-
trag 1 der Begriff „alle vorhandenen“ durch „jeder“ ersetzt und der Verlauf der
magnetischen Feldlinien präzisiert wird. Er hat folgenden Wortlaut:
„Magnetronsputtergerät zur Ausbildung einer Dünnschicht auf ei-
nem Substrat (2) durch Anhaftung von abgestäubten Metallato-
men oder -ionen mit
zumindest einer Magnetronzerstäubungsquelle (3), die die Metall-
atome oder -ionen verstäubt; und
zumindest einem magnetischen Hilfspol (9; 9a, 9b),
wobei
- 6 -
jede Magnetronzerstäubungsquelle (3) und jeder magnetische
Hilfspol (9; 9a, 9b) an der Peripherie des Substrates (2) zur Er-
zeugung von das Substrat (2) umgebenden magnetischen Feldli-
nien (11) bereitgestellt sind, und
wobei der äußere magnetische Pol jeder Magnetronzerstäu-
bungsquelle (3) und jeder magnetische Hilfspol die gleiche Pola-
rität aufweisen,
so dass die magnetischen Feldlinien (11) so erzeugt werden, dass
sie jeweils in den zentralen Abschnitt zwischen Magnetron-
zerstäubungsquelle und benachbartem Hilfspol oder zwischen zu-
einander benachbarten Hilfspolen zurückgedrängt werden.“
Der geltende Anspruch 1 gemäß Hilfsantrag 3 enthält die Merkmale des Patentan-
spruchs 1 nach Hilfsantrag 2 und konkretisiert die Anordnung der Hilfspole und
den Magnetfeldverlauf. Er lautet:
„Magnetronsputtergerät zur Ausbildung einer Dünnschicht auf ei-
nem Substrat (2) durch Anhaftung von abgestäubten Metallato-
men oder -ionen mit
zumindest einer Magnetronzerstäubungsquelle (3), die die Metall-
atome oder -ionen verstäubt; und
und einer Vielzahl von magnetischen Hilfspolen (9; 9a, 9b),
wobei
jede Magnetronzerstäubungsquelle (3) und jeder magnetische
Hilfspol (9; 9a, 9b) in gleichmäßigen Abständen an der Peripherie
- 7 -
des Substrates (2) zur Erzeugung von das Substrat (2) umgeben-
den magnetischen Feldlinien (11) bereitgestellt sind, und
wobei der äußere magnetische Pol jeder Magnetronzerstäu-
bungsquelle (3) und jeder magnetische Hilfspol die gleiche Pola-
rität aufweisen,
so dass die magnetischen Feldlinien (11) so erzeugt werden, dass
sie jeweils in den zentralen Abschnitt zwischen Magnetron-
zerstäubungsquelle und benachbartem Hilfspol oder zwischen zu-
einander benachbarten Hilfspolen zurückgedrängt werden,
und dass das magnetische Feld zwischen Magnetronzerstäu-
bungsquelle und dem dazu benachbarten magnetischen Hilfspol
zueinander zurückgetrieben wird.“
Bezüglich der Unteransprüche gemäß Hauptantrag wird auf das Streitpatent und
bezüglich der jeweiligen Unteransprüche gemäß Hilfsantrag 1 bis 3 und wegen der
weiteren Einzelheiten wird auf den Akteninhalt verwiesen.
II.
1.
Das
anhängige
Einspruchsverfahren
wurde
gemäß
§ 147
Abs. 3,
1. Alternative PatG i. d. F. vom 1. Januar 2002 an das Bundespatentgericht abge-
geben. Diese zeitlich bis zum 30. Juni 2006 begrenzte Verlagerung der Zuständig-
keit hat der BGH als nicht verfassungswidrig beurteilt
.
Demnach besteht eine vor dem 1. Juli 2006 begründete Zuständigkeit des Bun-
despatentgerichts für die Entscheidung über den Einspruch auch nach der Aufhe-
bung des § 147 Abs. 3 PatG fort.
- 8 -
2.
Die Zulässigkeit des Einspruchs ist zwar nicht angegriffen worden, jedoch ist
diese von Amts wegen zu prüfen, da bei Vorliegen eines einzigen Einspruchs des-
sen Unzulässigkeit zur Beendigung des Einspruchsverfahrens ohne weitere Sach-
prüfung über die Rechtsbeständigkeit des Streitpatents führt
.
Der form- und fristgerecht erhobene Einspruch ist zulässig, weil ein Widerrufs-
grund des § 21 PatG, insbesondere der fehlenden Neuheit (§ 59 Abs. 1 Satz 3
PatG i. V. m. § 21 Abs. 1 Nr. 1) angegeben ist und die Tatsachen, die den Ein-
spruch rechtfertigen, im Einzelnen aufgeführt sind (§ 59 Abs. 1 Satz 4 PatG), da in
der zugehörigen Begründung u. a. ein konkreter Bezug der einzelnen Merkmale
des erteilten Patenanspruchs 1 zum Stand der Technik nach beispielsweise der
Druckschrift E2 hergestellt wird, um die fehlende Neuheit zu belegen
Ob die dabei vorgetragenen Tatsachen den Widerruf des Patents auch tatsächlich
rechtfertigen, ist nicht bei der Zulässigkeit, sondern bei der Begründetheit des Ein-
spruchs zu prüfen
.
3.
Ausweislich der geltenden Beschreibungseinleitung betrifft das vorliegende
Patent ein Magnetronsputtergerät zur Ausbildung einer Dünnschicht auf einem
Substrat mit zumindest einer Magnetronzerstäubungsquelle und einem magneti-
schen Hilfspol,
Magnetronsputtergeräte bestehen aus einer Vakuumkammer, in der sich ein zu
beschichtendes Substrat gegenüber einem Target befindet, aus dem beschleu-
nigte Ionen das abzuscheidende Beschichtungsmaterial herausschlagen sollen.
- 9 -
Dazu wird ein Inertgas, wie Argon, in die Vakuumkammer eingebracht wird und
eine Spannung zwischen dem Substrat und dem Target angelegt. Das Inertgas
wird in Kationen und Anionen ionisiert, wobei die positiv geladenen Kationen zu
dem auf negativem Potential liegenden Target beschleunigt werden und aus die-
sem Targetmaterialatome herausschlagen. Gemäß Figur 9 der Streitpatentschrift,
von der das Streitpatent als Stand der Technik ausgeht, sind dem elektrischen
Feld über magnetische Pole (31, 32) zusätzliche magnetische Felder überlagert,
die insbesondere die Elektronen oberhalb des Targets auf Spiralbahnen zwingen
und eine höhere Ionisation und Abscheiderate bewirken. Dies erlaubt eine Verrin-
gerung des Prozessdrucks, was die Qualität der abgeschiedenen Schicht erhöht.
Zur Verdichtung des Plasmas sind mehrere Targets (34) an der Peripherie des
Substrats (36) angeordnet und mit einem inneren (31) und einem ringförmigem
äußeren (32) magnetischen Pol versehen. Die Polarität der magnetischen Pole ist
dabei so gewählt, dass sich die Polaritäten benachbarter äußerer magnetischer
Pole voneinander unterscheiden und sich im Betrieb ein magnetisches Feld zwi-
schen den äußeren Ringpolen der Targets erstreckt, was ein Entweichen von
Elektronen zwischen den Targets verhindert und die Ionisation erhöht,
Ein solches Magnetronsputtergerät ist jedoch insofern problematisch als zwei ver-
schiedene Targetkonstruktionen mit unterschiedlichen Polaritäten des äußeren
(32) und des inneren (31) magnetischen Pols vorgehalten werden müssen,
Vor diesem Hintergrund liegt dem Streitpatent als technisches Problem die Auf-
gabe zugrunde, ein Magnetronsputtergerät anzugeben, das dieses Problem löst,
Die Aufgabe wird sowohl durch das Magnetronsputtergerät des erteilten
Anspruchs 1
nach
Hauptantrag
als
auch
durch
die
jeweiligen
Magnetronsputtergeräte der Ansprüche 1 gemäß den Hilfsanträgen 1 bis 3 gelöst.
- 10 -
Hierfür ist ein Magnetronsputtergerät zur Ausbildung einer Dünnschicht auf einem
Substrat durch Anhaftung von abgestäubten Metallatomen oder -ionen vorgesehen
mit zumindest einer Magnetronzerstäubungsquelle, die die Metallatome oder -ionen
verstäubt, und zumindest einem magnetischen Hilfspol, wobei die zumindest eine
Magnetronzerstäubungsquelle und der zumindest eine magnetische Hilfspol sämtlich
an der Peripherie des Substrates zur Erzeugung von das Substrat umgebenden
magnetischen Feldlinien bereitgestellt sind und der äußere magnetische Pol der
zumindest einen Magnetronzerstäubungsquelle und der zumindest eine magnetische
Hilfspol die gleiche Polarität aufweisen.
Weitere Maßnahmen wie die Anordnung aller vorhandenen Magnetronzerstäu-
bungsquellen und Hilfspole an der Peripherie des Substrates, wobei der äußere
magnetische Pol aller vorhandenen Magnetronzerstäubungsquellen und alle vor-
handenen Hilfspole die gleiche Polarität aufweisen oder deren Anordnung in
gleichmäßigen Abständen an der Peripherie des Substrates, sind der Lehre der
Streitpatentschrift als vorteilhafte Ausgestaltungen des Magnetronsputtergeräts zu
entnehmen. Die so konkretisierten Magnetronsputtergeräte lösen im Rahmen der
gestellten Hilfsanträge ebenfalls die dem Streitpatent zugrundeliegende Aufgabe.
4.
Die Frage der Zulässigkeit der geltenden Ansprüche sowie die Erörterung der
Frage, ob die Ansprüche 1 gemäß Hauptantrag und Hilfsanträgen 1 bis 3 Varian-
ten umfassen, die im Streitpatent so deutlich und vollständig offenbart sind, dass
der zuständige Fachmann sie ausführen kann, können in Folge dahinstehen, denn
der Einspruch hat schon deshalb Erfolg, weil die mit den Ansprüchen 1 des
Hauptantrags und der Hilfsanträge 1 bis 3 verteidigten Magnetronsputtergeräte
nicht patentfähig sind
.
Der zuständige Fachmann ist hier als berufserfahrener, mit der Entwicklung von
Magnetronsputtergeräten betrauter Diplom-Ingenieur der Fachrichtung Maschi-
nenbau mit Hochschulabschluss zu definieren.
- 11 -
a) Das Magnetronsputtergerät des Anspruchs 1 nach Hauptantrag ist im Hinblick
auf den Stand der Technik gemäß Druckschrift E2 nicht neu, denn diese offenbart,
vgl. die Figur 3, in Übereinstimmung mit der Lehre des Streitpatents ein
Magnetronsputtergerät zur Ausbildung einer Dünnschicht auf ei-
nem Substrat durch Anhaftung von abgestäubten Me-
tallatomen oder -ionen mit zumindest einer Magnetronzerstäu-
bungsquelle die die Metallatome oder -ionen ver-
stäubt und zumindest einem magnetischen Hilfspol
(
wobei
die
zumindest
eine
Magnetronzerstäubungsquelle
(und der zumindest eine magnetische Hilfspol
sämtlich an der Peripherie des Substra-
tes zur Erzeugung von das Substrat umge-
benden magnetischen Feldlinien bereitgestellt sind
wobei der äußere magnetische Pol
der zumindest einen Magnetronzerstäubungsquelle
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und der zumindest eine magnetische Hilfspol
die gleiche Polarität aufwei-
sen
Da gemäß Anspruch 1 des Hauptantrags nicht alle Hilfspole an der Peripherie des
Substrats angeordnet sein müssen, sondern nur der zumindest eine Hilfspol, weist
das Magnetronsputtergerät der Druckschrift E2 sämtliche Merkmale des An-
spruchs 1 gemäß Hauptantrag auf.
Anspruch 1 nach Hauptantrag ist daher nicht rechtsbeständig.
b) Das Magnetronsputtergerät des Anspruchs 1 nach Hilfsantrag 1 beruht
hinsichtlich des Stands der Technik gemäß Druckschrift E2 nicht auf einer erfinde-
rischen Tätigkeit des zuständigen Fachmanns, denn diese offenbart, vgl. die Fi-
gur 3, in Übereinstimmung mit der Lehre des Streitpatents ein
Magnetronsputtergerät zur Ausbildung einer Dünnschicht auf ei-
nem Substrat durch Anhaftung von abgestäubten Me-
tallatomen oder -ionen mit zumindest einer Magnetronzerstäu-
bungsquelle die die Metallatome oder -ionen ver-
stäubt und zumindest einem magnetischen Hilfspol
(
- 13 -
wobei
alle
vorhandenen
Magnetronzerstäubungsquellen
( und - bis auf einen zentralen Hilfspol
- alle vorhandenen magnetischen Hilfspole
an der Peripherie des Substrates
zur Erzeugung von das Substrat umgeben-
den magnetischen Feldlinien bereitgestellt sind
und der äußere magnetische Pol
aller
vorhandenen
Magnetronzerstäubungsquellen
und - bis auf den zentralen Hilfspol
- alle vorhandenen magnetischen Hilfs-
pole die gleiche Polarität
aufweisen.
Somit unterscheidet sich das Magnetronsputtergerät des Patentanspruchs 1 nach
Hilfsantrag 1 von dem in Fig. 3 der Druckschrift E2 offenbarten Magnetronsputter-
gerät lediglich durch die Abwesenheit des zentralen Hilfspols.
Dieser Unterschied beruht jedoch nicht auf einer erfinderischen Tätigkeit des vor-
stehend definierten Fachmanns, denn die Figuren 9 und 10 der Druckschrift E2
offenbaren in Ergänzung zur Figur 3, dass die Polarität des zentralen Hilfspols und
die der äußeren magnetischen Pole der Magnetronzerstäubungsquellen überein-
stimmen müssen, wenn deren gegenseitige Kopplung unerwünscht ist und die
magnetischen Feldlinien wie im Streitpatent nach außen gedrängt werden sollen
- 14 -
Druckschrift E2 lehrt demnach gleiche Polarität sowohl für die äußeren magneti-
schen Pole der Magnetronzerstäubungsquellen als auch für die äußeren
Hilfspole und den zentralen Hilfspol , falls ein starkes Herausdrängen der
magnetischen Feldlinien erforderlich ist. Dieses Herausdrängen der Feldlinien ist
jedoch ebenfalls vorhanden, wenn der zentrale Hilfspol weggelassen wird. Da die
Auswahl einer von mehreren nach dem Stand der Technik für den Durchschnitts-
fachmann erkennbaren Alternativen zur Lösung des technischen Problems nicht
schon deshalb als auf erfinderischer Tätigkeit beruhend anzusehen ist, weil aus
der Sicht des Durchschnittsfachmanns andere Lösungen besser geeignet oder
vorteilhafter erscheinen ,
kann der Verzicht auf den zentralen Hilfspol keine erfinderische Tätigkeit des
Fachmanns gegenüber der Lehre der Druckschrift E2 begründen. Somit ergibt
sich das Magnetronsputtergerät des Patentanspruchs 1 nach Hilfsantrag 1 durch
Weglassen des zentralen Hilfspols in Fig. 3 der Druckschrift E2 für den Fach-
mann aufgrund der Lehre der Fig. 9, wonach ein Herausdrängen der magneti-
schen Feldlinien erreicht wird, wenn der zentrale Hilfspol und die äußeren magne-
tischen Pole der Magnetronzerstäubungsquellen gleiche Polarität haben, wobei es
für den Fachmann offensichtlich ist, dass dieses Zurückdrängen aufgrund der
übereinstimmenden Polaritäten ebenfalls vorhanden ist, wenn der zentrale Hilfspol
weggelassen wird.
Anspruch 1 nach Hilfsantrag 1 ist daher nicht rechtsbeständig.
c)
Auch das Magnetronsputtergerät des Anspruchs 1 nach Hilfsantrag 2 beruht
im Hinblick auf den Stand der Technik gemäß Druckschrift E2 nicht auf einer er-
finderischen Tätigkeit des zuständigen Fachmanns.
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Anspruch 1 des Hilfsantrag 2 ergibt sich aus Anspruch 1 des Hilfsantrags 1 durch
Ersetzen der Formulierung „alle vorhandenen“ durch den gleichbedeutenden Be-
griff „jeder“ sowie durch Anfügen der Wirkungsangabe „so dass die magnetischen
Feldlinien (11) so erzeugt werden, dass sie jeweils in den zentralen Abschnitt zwi-
schen Magnetronzerstäubungsquelle und benachbartem Hilfspol oder zwischen
zueinander benachbarten Hilfspolen zurückgedrängt werden“.
Dieses Zusatzmerkmal ist jedoch aus Druckschrift E2 bekannt, denn die in Fig. 3
der Druckschrift E2 offenbarte periphere Anordnung von äußeren Hilfspolen
und äußeren magnetischen Polen der Magnetronzerstäubungsquellen mit
jeweils gleicher Polarität (N), führt zwangsläufig dazu, dass in Übereinstimmung
mit der Lehre des Anspruchs 1 des Hilfsantrags 2 die magnetischen Feldlinien
so erzeugt werden, dass sie jeweils in den zentralen Abschnitt zwischen
Magnetronzerstäubungsquelle und benachbartem Hilfspol oder zwischen
zueinander benachbarten Hilfspolen zurückgedrängt werden.
Da zudem die Formulierungen „alle vorhandenen“ und „jede“ gleichbedeutend
sind, legt Druckschrift E2 die Lehre des Anspruchs 1 nach Hilfsantrag 2 nahe, die
somit auch nicht rechtsbeständig ist.
d) Das Magnetronsputtergerät des Anspruchs 1 nach Hilfsantrag 3 beruht
hinsichtlich des Stands der Technik gemäß Druckschrift E2 ebenfalls nicht auf
einer erfinderischen Tätigkeit des zuständigen Fachmanns.
Anspruch 1 des Hilfsantrags 3 enthält hinsichtlich Anspruch 1 des Hilfsantrags 2
die Zusatzmerkmale, dass zum einen jede Magnetronzerstäubungsquelle und je-
der magnetische Hilfspol in gleichmäßigen Abständen bereitgestellt sind und dass
zum anderen das magnetische Feld zwischen Magnetronzerstäubungsquelle und
dem dazu benachbarten magnetischen Hilfspol zueinander zurückgetrieben wird.
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Jedoch offenbart Druckschrift E2 auch diese Zusatzmerkmale. So zeigt Figur 3 die
Bereitstellung von Magnetronzerstäubungsquellen und äußeren magnetischen
Hilfspolen in gleichmäßigen Abständen. Dass dabei das magnetische Feld
zwischen Magnetronzerstäubungsquelle und dem dazu benachbarten magne-
tischen Hilfspol zueinander zurückgetrieben wird, ist wiederum eine zwangs-
läufige Konsequenz aus deren übereinstimmender Polarität.
Anspruch 1 nach Hilfsantrag 3 ist daher nicht rechtsbeständig.
5.
Die Unteransprüche fallen wegen der Antragsbindung mit den jeweiligen
Patentansprüchen 1
6.
Bei dieser Sachlage war das Patent zu widerrufen.
Lokys
Martens
Maile
Dr. Friedrich
Pr
Pr